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반도체 전공정 중요 단계: 식각 공정에 대한 이해와 산업 전망 반도체 제조 과정에서 식각 공정은 핵심적인 단계입니다. 이 단계에서 반도체 웨이퍼의 표면에서 불필요한 부분을 제거하여 정확한 회로 패턴을 형성합니다. 식각 공정에 대한 개념과 산업 전망, 그리고 국내 상장 기업 중 관련 기업들을 살펴보겠습니다. 식각 공정의 개념과 필요성 식각 공정은 반도체 웨이퍼의 표면에서 불필요한 부분을 제거하는 과정입니다. 이를 통해 반도체 회로 패턴을 정확하게 형성할 수 있습니다. 패턴 정확도 : 식각은 반도체 회로의 정확한 패턴을 형성하는 핵심 단계입니다. 불량 방지 : 정확한 식각 속도를 유지하여 불량을 방지합니다. 효율성 : 식각 속도를 최적화하여 생산성을 향상시킵니다. 식각 공정 소재 폴리 실리콘 (Poly Silicon): 용도 : 반도체 식각 공정 중에서 가장 많이 사용.. 2024. 3. 21.
포토공정과 EUV: 빛으로 그리는 반도체 미래 반도체 산업은 현대 사회에서 핵심적인 역할을 하며 , 우리 일상생활에 빠질 수 없는 기술적 기반을 제공합니다 . 이러한 반도체를 만들기 위해 필요한 과정 중 하나가 포토공정입니다 . 포토공정은 빛을 이용하여 반도체 웨이퍼 위에 미세한 회로를 그리는 과정으로 , 반도체 제조에서 핵심적인 역할을 합니다 . 포토공정 (Photo Lithography) 이란 ? 포토공정은 반도체 제조 과정에서 굉장히 중요한 단계입니다. 이 단계에서는 웨이퍼 위에 미세한 반도체 회로를 그립니다. 포토 리소그래피 기술을 이용하여 수행되며, 웨이퍼에 빛을 쪼이는 것을 통해 회로를 형성하는 방법입니다. 웨이퍼 위에 미리 코팅된 빛에 민감한 화학 물질인 포토레지스트를 적층 하고, 미리 제작된 '마스크’ 를 이용하여 빛을 웨이퍼에 쪼어 .. 2024. 3. 19.
반도체 산화공정: 기술, 산업 전망, 국내 기업 분석 반도체 산업은 현대 사회에서 핵심적인 역할을 하며, 이를 구성하는 전공정 중 하나인 산화공정은 반도체 제조 과정에서 핵심적인 역할을 수행합니다. 산화공정은 반도체 웨이퍼에 절연막을 형성하고, 확산 방지막 및 식각 방지막으로 활용됩니다. 이 포스팅에서는 산화공정의 개념, 필요성, 산업 전망, 그리고 국내 상장 기업과 파트너사들을 자세히 살펴보겠습니다. 산화공정 (Oxidation Process) 개념 산화공정은 반도체 제조에서 중요한 역할을 하는 공정 중 하나입니다. 이 과정은 다양한 목적으로 사용됩니다. 불순물 제거 (Wafer Cleaning): 웨이퍼에 불순물을 제거하기 위해 클리닝 과정을 거칩니다. 유기물, 금속 등의 불순물을 세척하고 웨이퍼를 건조합니다. 산화막 형성 (Oxide Layer For.. 2024. 3. 14.
23반도체과학법으로 뜨거워진 미국의 반도체 산업, 24년의 우리 기업은 어떻게 대응해야 할까? 23 반도체과학법이란? 23 반도체과학법은 미국이 반도체 산업의 경쟁력을 강화하고 공급망의 탄력성을 높이기 위해 제정한 법안입니다 . 이 법안은 2023 년 8 월에 발효되었으며 , 총 2,782 억 달러의 예산을 기초과학 , 기술 진흥 , 반도체 생산 세액공제 , 미국 산업 생태계 지원 등에 투입할 계획입니다. 이 법안은 다음과 같은 세부 내용을 담고 있습니다 . 기초과학 , 기술 진흥 : 국립과학재단 (NSF) 에 810 억 달러를 지원하고 , 새로운 기술혁신국을 신설하여 인공지능과 반도체 등 10 대 핵심 기술 연구개발에 중점을 두고 있습니다 . 또한 , 에너지 ( 원자력 , 탄소중립 ), 바이오 , 우주항공 등의 분야에도 1,190 억 달러를 투자하여 미국의 과학기술 리더십을 강화하고 있습니다. .. 2024. 2. 8.
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