반도체 산업은 현대 사회에서 핵심적인 역할을 하며 , 우리 일상생활에 빠질 수 없는 기술적 기반을 제공합니다 . 이러한 반도체를 만들기 위해 필요한 과정 중 하나가 포토공정입니다 . 포토공정은 빛을 이용하여 반도체 웨이퍼 위에 미세한 회로를 그리는 과정으로 , 반도체 제조에서 핵심적인 역할을 합니다 .
포토공정 (Photo Lithography) 이란 ?
포토공정은 반도체 제조 과정에서 굉장히 중요한 단계입니다. 이 단계에서는 웨이퍼 위에 미세한 반도체 회로를 그립니다. 포토 리소그래피 기술을 이용하여 수행되며, 웨이퍼에 빛을 쪼이는 것을 통해 회로를 형성하는 방법입니다. 웨이퍼 위에 미리 코팅된 빛에 민감한 화학 물질인 포토레지스트를 적층 하고, 미리 제작된 '마스크’ 를 이용하여 빛을 웨이퍼에 쪼어 회로 패턴을 형성합니다. 이를 통해 반도체의 미세한 회로 구현이 가능해집니다.
포토공정의 필요성
포토공정은 반도체의 집적도가 증가할수록 칩을 구성하는 단위 소자 역시 미세공정을 사용해 작게 만들어주어야 합니다. 미세회로 패턴 구현 역시 포토공정에 의해 결정되기 때문에 집적도가 높아질수록 포토 공정에도 높은 기술 수준이 요구됩니다.
포토공정과 EUV (Extreme Ultraviolet) 는 반도체 제조 과정에서 서로 다른 역할을 합니다.
포토공정 :
개념 : 포토공정은 반도체 제조 과정 중 하나로, 빛을 이용하여 반도체 웨이퍼 위에 미세한 회로를 그리는 과정입니다.
작동 방식 : 포토 리소그래피 기술을 사용하여 수행됩니다. 웨이퍼에 민감한 화학 물질인 포토레지스트를 적층 하고, 미리 제작된 ' 마스크’ 를 이용하여 빛을 웨이퍼에 쪼여 회로 패턴을 형성합니다
목적 : 반도체의 미세한 회로 구현이 가능해집니다.
EUV:
개념 : EUV 는 극자외선을 이용하여 반도체 노광 과정을 수행하는 기술입니다.
작동 방식 : 더 짧은 파장의 빛을 사용하여 미세한 회로를 그리는데 활용됩니다. ASML 사의 EUV 장비를 통해 반도체 제조에서 미세회로 구현이 가능해졌습니다.
목적 : 반도체 노광 과정에서 사용되며 , 더 선명하고 더 미세한 회로를 구현하는데 기여합니다.
요약하자면 , 포토공정은 빛을 이용하여 회로를 그리는 과정이고 , EUV 는 극자외선을 이용한 노광 기술입니다.
관련 기업
에스앤에스텍 : 블랭크마스크를 생산하는 기업으로, 반도체 포토공정에서 중요한 역할을 합니다.
동진쎄미켐 : 감광액 ( 포토레지스트 ) 을 제조하는 기업으로, 반도체 포토공정에서 필수적인 소재를 공급합니다.
이엔에프테크놀로지 : 포토레지스트 원료를 생산하는 기업으로, 반도체 포토공정에서 중요한 역할을 합니다.
에프에스티 (EUV 대장주 ):
에프에스티는 극자외선 (EUV) 펠리클 장비 공급에 성공하였습니다.
펠리클은 반도체 노광 공정에 쓰이는 소재로 , 반도체 회로 패턴이 그려진 마스크 손상을 최소화합니다.
초미세 반도체 제조에 EUV 가 필수이며, EUV 공정에서 펠리클을 사용하는 빈도가 늘어나고 있는 상황입니다.
에스앤에스텍 (EUV 대장주 ):
에스앤에스텍은 투과율 90% 이상의 EUV 펠리클을 개발 완료하였습니다.
해당 이슈로 주가 상승폭이 매우 컸으며, EUV 펠리클 양산에 돌입하므로 EUV 대장주로 부각되었습니다.
파크시스템스 (EUV 관련주 ):
파크시스템스는 EUV 소재 부품 개발 기업으로, EUV 노광 공정 관련 제품 출시를 준비 중입니다.
포토마스크 리페어 설비 테스트를 진행한 바 있음으로 EUV 관련주로 선정되었습니다.
디바이스이엔지 (EUV 테마주 ):
디바이스이엔지는 원자현미경의 응용범위를 확대해 가며, 대량생산 공정에도 적용하려는 움직임을 보입니다.
또한, 전공정뿐만 아니라, 후공정과 EUV 마스크 공정에서 원자현미경의 필요성이 대두되고 있습니다.