반응형 테스1 반도체 전공정 중요 단계: 식각 공정에 대한 이해와 산업 전망 반도체 제조 과정에서 식각 공정은 핵심적인 단계입니다. 이 단계에서 반도체 웨이퍼의 표면에서 불필요한 부분을 제거하여 정확한 회로 패턴을 형성합니다. 식각 공정에 대한 개념과 산업 전망, 그리고 국내 상장 기업 중 관련 기업들을 살펴보겠습니다. 식각 공정의 개념과 필요성 식각 공정은 반도체 웨이퍼의 표면에서 불필요한 부분을 제거하는 과정입니다. 이를 통해 반도체 회로 패턴을 정확하게 형성할 수 있습니다. 패턴 정확도 : 식각은 반도체 회로의 정확한 패턴을 형성하는 핵심 단계입니다. 불량 방지 : 정확한 식각 속도를 유지하여 불량을 방지합니다. 효율성 : 식각 속도를 최적화하여 생산성을 향상시킵니다. 식각 공정 소재 폴리 실리콘 (Poly Silicon): 용도 : 반도체 식각 공정 중에서 가장 많이 사용.. 2024. 3. 21. 이전 1 다음 반응형
